PVD ম্যাগনেট্রন Sputtering আবরণ মেশিন

1. ম্যাগনেট্রন sputtering একটি প্লাজমা লেপ প্রক্রিয়া যেখানে দ্বারা sputteringলক্ষ্য পৃষ্ঠে আয়নগুলির বোমা বর্ষণের কারণে উপাদান নির্গত হয়।পিভিডি লেপ মেশিনের ভ্যাকুয়াম চেম্বারটি একটি নিষ্ক্রিয় গ্যাসে ভরা, যেমন আর্গন।

2. ম্যাগনেট্রন স্পটারিং লেপ সরঞ্জাম- ব্যাচের ধরণে নিম্নলিখিত মূল উপাদান রয়েছে:

ম্যাগনেট্রন স্পটারিং ক্যাথোড: সিলিন্ডার বা প্ল্যানার টাইপ;

বিদ্যুৎ সরবরাহ: পালস ডিসি, এমএফ, আরএফ

আয়ন উৎস: সাধারণত প্লাস্টিক/গ্লাস/সিরামিক/মেটাল পার্টসের জন্য গ্লো ডিসচার্জিং, প্লাজমা ক্লিনিং।

বায়াস পাওয়ার সাপ্লাই: শুধুমাত্র পরিবাহী কাজের টুকরোর উপর কাজ করে: ইস্পাত, লোহা, ইস্পাত খাদ, জামাক, অ্যালুমিনিয়াম খাদ, পিতল ইত্যাদি।

ভ্যাকুয়াম পাম্প প্যাকেজ: রোটারি ভেন পাম্প, রোটারি পিস্টন পাম্প, রুটস পাম্প, ডিফিউশন পাম্প/টার্বো মলিকিউলার পাম্প, হোল্ডিং পাম্প ইত্যাদি।

অন্যান্য: গেট ভ্যালস/ভ্যাকুয়াম গেজ, এমএফসি, ভ্যাকুয়াম ফিটিং এবং ভ্যাকুয়াম পাইপিং লাইন, ফিডের মাধ্যমে,

3. আরটিএসপি ধারাবাহিক আবরণ সরঞ্জামগুলি পরিবাহী, অ-পরিবাহী কার্যকরী আবরণ, নান্দনিক উদ্দেশ্যে উত্পাদনের জন্য ব্যবহৃত হয়।

A. অ্যাপ্লিকেশন: টাচ স্ক্রিন, ডিসপ্লের জন্য কাচের উপর ITO লেপ;স্থাপত্য কাচ;স্বয়ংচালিত শিল্প: গাড়ির চাকা এবং রিম, গাড়ির আয়না, হেড ল্যাম্প, টেইল লাইট, প্লাস্টিকের অভ্যন্তর এবং বহিরাগত;টেবিলওয়্যার এবং রান্নাঘরের জিনিসপত্র, গয়না, খেলাধুলা এবং খেলনা, জল-ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রতিস্থাপন।

বি লেপ উপকরণ:

ধাতু: Ti (টাইটানিয়াম), Cr Chromium), Zr (Zirconium), Cu (Copper), Al (Aluminium), Ni (Nickel),

SUS316 (স্টেইনলেস স্টিল) ...

ধাতব মিশ্রণ: টি-আল খাদ, Ni-Ca খাদ (নিকেল-ক্যাডমিয়াম), ITO (ইন্ডিয়াম টিন অক্সাইড)

C. Sputtering পদ্ধতি: ডিসি/এমএফ/আরএফ

ডি। বৈশিষ্ট্য: কম তাপমাত্রা জমা

4. Magnetron Sputtering আবরণ মেশিন মডেল

5. ম্যাগনেট্রন স্পটারিং লেপ মেশিন

নির্মিত সময়: 2016
অবস্থান: চীন
শিল্প: সিরামিক শীটে CU পরিবাহী ফিল্ম লেপ

6. সিলভার Sputtering আবরণ নমুনা

আরো স্পেসিফিকেশনের জন্য অনুগ্রহ করে আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন, রয়েল টেকনোলজি আপনাকে মোট লেপ সমাধান প্রদান করার জন্য সম্মানিত।