উজ্জ্বলতা আলোর ডিপিসি সিরামিক গয়না রিং ভ্যাকুয়াম আবরণ, Al2O3 / AlN সার্কিট বোর্ড PVD কপার প্লেটিং

কর্মক্ষমতা

1. আলটিমেট ভ্যাকুয়াম প্রেসার: 5.0 × 10 এর চেয়ে ভালো^-6 টর।

2. অপারেটিং ভ্যাকুয়াম চাপ: 1.0 × 10^-4 টর।

3. পাম্পিং ডাউন সময়: 1 atm থেকে 1.0 × 10 পর্যন্ত^-4 Torr≤ 3 মিনিট (ঘরের তাপমাত্রা, শুষ্ক, পরিষ্কার এবং খালি চেম্বার)

4. ধাতবকরণ উপাদান (sputtering + আর্ক বাষ্পীভবন): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr ইত্যাদি

5. অপারেটিং মডেল: সম্পূর্ণ স্বয়ংক্রিয়ভাবে / সেমি-অটো / ম্যানুয়ালি

কাঠামো

ভ্যাকুয়াম লেপ মেশিনে নীচে তালিকাভুক্ত কী সম্পন্ন সিস্টেম রয়েছে:

1. ভ্যাকুয়াম চেম্বার

2. Rouhging ভ্যাকুয়াম পাম্পিং সিস্টেম (ব্যাকিং পাম্প প্যাকেজ)

3. উচ্চ ভ্যাকুয়াম পাম্পিং সিস্টেম (চৌম্বকীয়ভাবে সাসপেনশন আণবিক পাম্প)

4. বৈদ্যুতিক নিয়ন্ত্রণ এবং অপারেশন সিস্টেম

5. অক্জিলিয়ারী ফ্যাসিলিটি সিস্টেম (সাব সিস্টেম)

6. জমা সিস্টেম

কপার স্পটারিং লেপ মেশিনের মূল বৈশিষ্ট্য

1. 8 স্টিয়ার আর্ক ক্যাথোড এবং ডিসি স্পটারিং ক্যাথোড, এমএফ স্পটারিং ক্যাথোড, আয়ন সোর্স ইউনিট দিয়ে সজ্জিত।

2. মাল্টিলেয়ার এবং কো-ডিপোজিশন লেপ পাওয়া যায়

3. প্লাজমা পরিষ্কারের প্রাক-চিকিত্সার জন্য আয়ন উৎস এবং ফিল্মের আনুগত্য বৃদ্ধির জন্য আয়ন-বিম সহায়ক জমা।

4. সিরামিক/ Al2O3/ AlN সাবস্ট্রেটস হিটিং আপ ইউনিট;

5. সাবস্ট্রেট ঘূর্ণন এবং বিপ্লব ব্যবস্থা, 1-পার্শ্ব আবরণ এবং 2-পার্শ্ব আবরণের জন্য।

সিরামিক রেডিয়েটিং সাবস্ট্রেটে কুপার ম্যাগনেট্রন স্পটারিং কোটিং প্ল্যান্ট

ডিপিসি প্রক্রিয়া- ডাইরেক্ট প্লেটিং কপার একটি উন্নত লেপ প্রযুক্তি যা এলইডি / সেমিকন্ডাক্টর / ইলেকট্রনিক শিল্পের সাথে প্রয়োগ করা হয়।একটি সাধারণ অ্যাপ্লিকেশন হল সিরামিক রেডিয়েটিং সাবস্ট্রেট।

2তিহ্যগত উত্পাদন পদ্ধতির তুলনায় Al2O3, AlN substrates PVD ভ্যাকুয়াম স্পটারিং প্রযুক্তির উপর কুপার পরিবাহী ফিল্ম ডিপোজিশন: DBC LTCC HTCC, অনেক কম উৎপাদন খরচ তার উচ্চ বৈশিষ্ট্য।

রয়েল টেকনোলজি টিম আমাদের গ্রাহককে পিভিডি স্পটারিং প্রযুক্তির সাহায্যে সফলভাবে ডিপিসি প্রক্রিয়াটি বিকাশ করতে সহায়তা করেছিল।

RTAC1215-SP মেশিনটি সিরামিক চিপস, সিরামিক সার্কিট বোর্ডে কপার পরিবাহী ফিল্ম লেপের জন্য একচেটিয়াভাবে ডিজাইন করা হয়েছে।

পিভিডি লেপ কিভাবে কাজ করে?

কঠিন ধাতু একটি উচ্চ ভ্যাকুয়াম পরিবেশে বাষ্পীভূত বা আয়নিত হয় এবং একটি বিশুদ্ধ ধাতু বা ধাতু মিশ্র ছায়াছবি হিসেবে বৈদ্যুতিক পরিবাহী পদার্থে জমা হয়।যখন একটি প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাস, যেমন নাইট্রোজেন, অক্সিজেন বা হাইড্রোকার্বন-ভিত্তিক গ্যাস ধাতব বাষ্পের সাথে প্রবর্তিত হয়, তখন এটি ধাতব বাষ্প প্রবাহ হিসাবে নাইট্রাইড, অক্সাইড বা কার্বাইড আবরণ তৈরি করে, রাসায়নিকভাবে গ্যাসের সাথে বিক্রিয়া করে।পিভিডি আবরণ অবশ্যই একটি বিশেষ প্রতিক্রিয়া চেম্বারে করা উচিত যাতে বাষ্পযুক্ত উপাদানগুলি কোনও দূষকের সাথে প্রতিক্রিয়া না করে যা অন্যথায় ঘরে উপস্থিত থাকবে।

পিভিডি লেপের প্রক্রিয়া চলাকালীন, প্রক্রিয়াটির পরামিতিগুলি নিবিড়ভাবে পর্যবেক্ষণ করা হয় এবং নিয়ন্ত্রিত হয় যাতে ফলিত ফিল্মের কঠোরতা, আনুগত্য, রাসায়নিক প্রতিরোধ, চলচ্চিত্রের কাঠামো এবং অন্যান্য বৈশিষ্ট্যগুলি প্রতিটি রানের জন্য পুনরাবৃত্তিযোগ্য হয়।বিভিন্ন পিভিডি লেপ পরিধান প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধি, ঘর্ষণ কমাতে, চেহারা উন্নত করতে এবং অন্যান্য কর্মক্ষমতা বৃদ্ধি অর্জন করতে ব্যবহৃত হয়।

টাইটানিয়াম, ক্রোমিয়াম, বা জিরকোনিয়াম, রূপা, সোনা, অ্যালুমিনিয়াম, তামা, স্টেইনলেস স্টিলের মতো উচ্চ বিশুদ্ধতা উপকরণ জমা করার জন্য, পিভিডি লেপের শারীরিক প্রক্রিয়া বিভিন্ন পিভিডি লেপ পদ্ধতির একটি ব্যবহার করে, যার মধ্যে রয়েছে:

আর্ক বাষ্পীভবন

তাপীয় বাষ্পীভবন

ডিসি/এমএফ স্পটারিং (আয়নগুলির বোমা হামলা)

আয়ন বিম জমা

আয়ন প্রলেপ

উন্নত sputtering

আরো স্পেসিফিকেশনের জন্য অনুগ্রহ করে আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন, রয়েল টেকনোলজি আপনাকে মোট লেপ সমাধান প্রদান করার জন্য সম্মানিত।