ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং প্রযুক্তি কি?
Magnetron sputtering হল PVD আবরণ প্রযুক্তির আরেকটি রূপ।

প্লাজমা আবরণ
ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং হল একটি প্লাজমা আবরণ প্রক্রিয়া যেখানে লক্ষ্যবস্তুতে আয়নগুলির বোমাবর্ষণের কারণে স্পাটারিং উপাদান নির্গত হয়।পিভিডি লেপ মেশিনের ভ্যাকুয়াম চেম্বারটি একটি নিষ্ক্রিয় গ্যাস দিয়ে ভরা হয়, যেমন আর্গন।একটি উচ্চ ভোল্টেজ প্রয়োগ করে, একটি গ্লো স্রাব তৈরি হয়, যার ফলে লক্ষ্য পৃষ্ঠে আয়নগুলির ত্বরণ এবং একটি প্লাজমা আবরণ তৈরি হয়।আর্গন-আয়নগুলি লক্ষ্য পৃষ্ঠ থেকে স্পুটারিং উপাদানগুলিকে বের করে দেবে (স্পটারিং), যার ফলে লক্ষ্যের সামনে পণ্যগুলির উপর একটি থুতুযুক্ত আবরণ স্তর তৈরি হবে।

প্রতিক্রিয়াশীল sputtering
প্রায়শই নাইট্রোজেন বা অ্যাসিটিলিনের মতো একটি অতিরিক্ত গ্যাস ব্যবহার করা হয়, যা নির্গত পদার্থের সাথে বিক্রিয়া করবে (প্রতিক্রিয়াশীল স্পুটারিং)।এই PVD আবরণ কৌশলের সাহায্যে বিস্তৃত বিস্তৃত লেপগুলি অর্জন করা যায়।ম্যাগনেট্রন স্পটারিং প্রযুক্তি তার মসৃণ প্রকৃতির কারণে ডিক্রিটিভ আবরণের (যেমন Ti, Cr, Zr এবং কার্বন নাইট্রাইড) জন্য খুবই সুবিধাজনক।একই সুবিধা ম্যাগনেট্রন স্পটারিংকে স্বয়ংচালিত বাজারে ট্রাইবোলজিক্যাল আবরণের জন্য ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত করে তোলে (যেমন CrN, Cr2এন এবং ডিএলসি আবরণের সাথে বিভিন্ন সংমিশ্রণ - ডায়মন্ড লাইক কার্বন আবরণ)।

চৌম্বকক্ষেত্র
ম্যাগনেট্রন স্পটারিং সাধারণ স্পটারিং প্রযুক্তি থেকে কিছুটা আলাদা।পার্থক্য হল যে ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং প্রযুক্তি চৌম্বকীয় ক্ষেত্র ব্যবহার করে প্লাজমাকে লক্ষ্যের সামনে রাখতে, আয়নগুলির বোমাবর্ষণকে তীব্র করে।একটি অত্যন্ত ঘন প্লাজমা এই PVD আবরণ প্রযুক্তির ফলাফল।

Magnetron sputtering প্রযুক্তির দ্বারা চিহ্নিত করা হয়:

• একটি জল-ঠান্ডা লক্ষ্য, তাই সামান্য বিকিরণ তাপ উত্পন্ন হয়
• প্রায় কোনো ধাতব লক্ষ্যবস্তু পচন ছাড়াই ছিটকে যেতে পারে
• রেডিও ফ্রিকোয়েন্সি (RF) ব্যবহার করে অ-পরিবাহী উপকরণগুলিকে ছিটকে দেওয়া যেতে পারে
  বা মাঝারি ফ্রিকোয়েন্সি (MF) শক্তি
• অক্সাইড আবরণ ছিটকে যেতে পারে (প্রতিক্রিয়াশীল স্পুটারিং)
• চমৎকার স্তর অভিন্নতা
• খুব মসৃণ ছিদ্রযুক্ত আবরণ (কোন ফোঁটা নেই)
• ক্যাথোড (2 মিটার পর্যন্ত লম্বা) যেকোনো অবস্থানে রাখা যেতে পারে, তাই উচ্চ
  sputtering সরঞ্জাম নকশা নমনীয়তা
•