আয়ন প্লেটিং ( আইপি ) একটি শারীরিক বাষ্প জমা (পিভিড) প্রক্রিয়া যা কখনও কখনও আয়ন অ্যাসপিস্টেড ডিপোজেশন (আইএডি) বা আয়ন বাষ্প জমা (IVD) বলা হয় এবং ভ্যাকুয়াম জমা একটি সংস্করণ। আয়ন প্লেটিং সমবর্তিত বা পর্যায়ক্রমিক বোমা বেষ্টনী ব্যবহার করে, এবং পরমাণু-আকারের অনলস কণা দ্বারা ডিপোজিট ফিল্ম। বপন করার পূর্বে বোম্বারমেন্টটি স্পুতকে সাব্রুট পৃষ্ঠাকে পরিষ্কার করার জন্য ব্যবহৃত হয়। জমা দেওয়ার সময় বোমাবাজি আমানত চলচ্চিত্রের বৈশিষ্ট্যগুলি সংশোধন ও নিয়ন্ত্রণ করতে ব্যবহৃত হয়। এটি গুরুত্বপূর্ণ যে বোমাটি একটি পারমাণবিক পরিষ্কার ইন্টারফেস বজায় রাখার জন্য প্রক্রিয়াটির পরিষ্কারকরণ এবং বন্টন অংশের মধ্যে ক্রমাগত হয়।

আয়ন আচ্ছাদিত কণা জমা করার জন্য বোম্বার কণা অনুপাত সহ বোমারু প্রাণী প্রজাতির শক্তি, প্রবাহ এবং ভর প্রবর্তন গুরুত্বপূর্ণ প্রক্রিয়াকরণ ভেরিয়েবল। ডিপোজিট করা উপাদানটি বাষ্পীভবন, স্পুতারিং (পক্ষপাতের স্পুতারিং), চাপ বাষ্প বা রাসায়নিক বাষ্প অগ্রদূত রাসায়নিক বাষ্প সংযোজন (সিভিডি) এর পচন দ্বারা বাষ্প হতে পারে । বোমার বিস্ফোরণে ব্যবহূত শক্ত শক্তগুলি সাধারণত আণবিক বা প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাসের আয়ন, বা কিছু ক্ষেত্রে, ঘনীভূত ফিল্ম উপাদানগুলির আয়ন ("ফিল্ম আয়ন")। আয়ন প্লেটিংটি একটি প্লাজমা পরিবেশে করা যেতে পারে যেখানে বোমা বিস্ফোরণের জন্য আয়নগুলি প্লাজমা থেকে বের করা হয় বা এটি একটি ভ্যাকুয়াম পরিবেশে করা যেতে পারে যেখানে বোমা বিস্ফোরণের জন্য আয়ন একটি পৃথক আয়ন বন্দুকের মধ্যে গঠিত হয়। আধুনিক আয়ন প্লেটিং কনফিগারেশনটি প্রায়ই আয়ন বীম অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন (IBAD) বলা হয়। প্লাজমাতে একটি প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাস বা বাষ্প ব্যবহার করে, যৌগিক পদার্থের চলচ্চিত্র জমা করা যেতে পারে।

আয়ন প্লেটিং যন্ত্রগুলিতে যৌগ পদার্থের কঠোর কোটিংগুলিকে জমা দিতে ব্যবহৃত হয়, পেটেন্ট মেটাল কোটিংস, উচ্চ ঘনত্বের সাথে অপটিক্যাল কোটিংস এবং জটিল পৃষ্ঠতলগুলিতে কনফার্মাল কোটিংস।

সাংহাই রয়্যাল টেকনোলজি বিভিন্ন সিরিজ প্রমিত পিভিডি ভ্যাকুয়াম লেপিং মেশিনের আওতায় আয়োড লেটিং টেকনোলজির উপর ভিত্তি করে তৈরি করা হয়েছে, যা বিভিন্ন সজ্জাসংক্রান্ত কোটিংস এবং ক্রিয়ামূলক ছায়াছবি যেমনঃ হার্ড কোটিং, জারা এবং স্ক্র্যাচ পরা অবস্থায়, উচ্চ চালনা এবং প্রতিফলিত কোটিংয়ের সাথে প্রয়োগ করা হয়েছে।

এই যন্ত্রগুলি প্ল্যাটফর্মের প্রাকটিসমেন্টের জন্য আয়োন বোমাবাজ ডিভাইস সজ্জিত করে, আউর মত আনার গ্যাসে প্রবর্তন করে, সিক্রেট সিক্রেট সাইড থেকে H2, সস্তর এবং ডেপোস্টোন ছায়াগুলির মধ্যে আনুগত্য অনুমোদন করে।

বিশেষ স্তর জন্য বন্ধন স্তর কখনও প্রয়োজন হয়। প্রতি শেষ ব্যবহারকারীর জন্য মোট কারাপরিদর্শক আবরণ প্রদানের লক্ষ্যে রয়্যাল টেকনোলজি

Magnetron Sputtering ভ্যাকুয়াম Deposition সিস্টেম

মাল্টি আর্ক ভ্যাকুয়াম আবরণ মেশিন

মাল্টি আর্ক + Magnetron Sputtering আবরণ যন্ত্রপাতি

আপনার পণ্য জন্য সর্বোত্তম আবরণ সমাধান খুঁজে আজ আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন।