মিড ফ্রিকোয়েন্সি Magnetron Sputtering আবরণ মেশিন / এমএফ Sputtering সিস্টেম

ম্যাগনেট্রন স্পুত্টারিং ভ্যাকুয়াম ক্যাটিং হল PVD আয়ন প্লাইটিং পৃষ্ঠ চিকিত্সা মেনডোডের একটি প্রকার। এটি অনেক ধরণের উপকরণ: আবহমণ্ডল, কাঁচ, সিরামিক, প্লাস্টিক, ধাতু খাদ ইত্যাদি পরিচালনা বা পরিচালনা না করার জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে। Sputtering জমাশন ধারণা: লেপ উপাদান (লক্ষ্য, এছাড়াও নাম ক্যাথোড) এবং কাজ টুকরা (substrates, এছাড়াও আহৃত বলা হয়) ভ্যাকুয়াম চেম্বার মধ্যে স্থাপন করা হয় এবং চাপ কম হয়। স্পাটারিংটি একটি ভোল্টেজ ডিফারিনেন্টিয়াল এবং আর্গন গ্যাস প্রবর্তন করে লক্ষ্য স্থাপন করে চালু হয় যা আর্গন আয়ন (গ্লাশ স্রাব) তৈরি করে। আর্গন আয়ন প্রক্রিয়া লক্ষ্য দিকে ত্বরান্বিত এবং টার্গেট পরমাণু অবরুদ্ধ। এই sputtering পরমাণু তারপর স্তর উপর ঘনীভূত হয় এবং খুব পাতলা এবং উচ্চ এক্রৃশ্যতা স্তর গঠন। কোটিং প্রসেসের সময় প্রতিক্রিয়াশীল গ্যাসগুলি যেমন নাইট্রোজেন, অক্সজেন বা অ্যাসিটাইলিন প্রবর্তন করে বিভিন্ন রং পাওয়া যায়।

Magnetron Sputtering মডেল: ডিসি Sputtering, এমএফ Sputtering, আরএফ Sputtering

এমএফ স্প্রাটারিং কি?

ডিসি এবং আরএফ sputtering সঙ্গে তুলনা, মিড-ফ্রিকোয়েন্সি sputtering বিশেষভাবে জন্য অপটিকাল coatings, সৌর প্যানেল, একাধিক স্তর হিসাবে অস্তরক এবং নন- conductive ফিল্ম কোটিংস ফিল্ম জমা জন্য বিশেষ আবরণ জন্য লেপ ভর উত্পাদন জন্য একটি প্রধান পাতলা ফিল্ম sputtering কৌশল হয়ে উঠেছে , কম্পোজিট উপাদান ফিল্ম ইত্যাদি

এটা আরএফ sputtering প্রতিস্থাপনের কারণে এটা আরো দ্রুত বর্ধন হার জন্য MHz এর পরিবর্তে kHz দ্বারা চালিত এবং এছাড়াও ডিসি মত যৌগিক পাতলা ফিল্ম জমাকরণের সময় টার্গেট বিষাক্ততা এড়াতে পারেন।

এমএফ sputtering লক্ষ্যমাত্রা সবসময় দুই সেট সঙ্গে অস্তিত্ব। দুটি ক্যাথোড একটি এসি বর্তমান সঙ্গে ব্যবহৃত হয় পিছনে এবং পিছনে যা তাদের প্রতিদ্বন্দ্বী প্রতিটি স্তর সঙ্গে চূড়ান্ত সঙ্গে কমিয়ে দেয় যে arcing যে artera যা প্লাস মধ্যে ড্রপ এবং spruce ইউনিফর্ম পাতলা ফিল্ম বৃদ্ধি প্রতিরোধ করা যেতে পারে টার্গেট পৃষ্ঠ পরিষ্কার করে। যা আমরা টার্গেট বিষক্রিয়া বলা হয়।

এমএফ Sputtering সিস্টেম পারফরমেন্স

1. আলটিমেট ভ্যাকুয়াম চাপ: 5.0 × 10 এর চেয়ে ভাল ^{- 6} টর।

2. ভ্যাকুয়াম চাপ চালানো: 1.0 × 10 ^{- 4} টর।

3. পাম্পডাউন টাইম: 1 এট থেকে 1.0 × 10 ^{- 4} টরঃ 3 মিনিট (কক্ষ তাপমাত্রা, শুষ্ক, পরিষ্কার এবং খালি চেম্বার)

4. মেটালাইজিং উপাদান (স্পুটারিং + আর্ক বাষ্পীভবন): নি, কু, এজি, অউ, তি, জির, সিআর, টিআইএন, টিআইসি, টিএলএন, ক্রএন, সিআরসি ইত্যাদি।

5. অপারেটিং মডেল: সম্পূর্ণ স্বয়ংক্রিয়ভাবে / সেমি অটো / ম্যানুয়ালি

এমএফ স্পুত্টারিং সিস্টেম স্ট্রাকচার

ভ্যাকুয়াম লেপ মেশিন নীচে তালিকাভুক্ত কী সম্পন্ন সিস্টেম রয়েছে:

1. ভ্যাকুয়াম চেম্বার

2. রৌহিং ভ্যাকুয়াম পাম্পিং সিস্টেম (ব্যাকিং পাম্প প্যাকেজ)

3. উচ্চ ভ্যাকুয়াম পাম্পিং সিস্টেম (চুম্বকীয় সাসপেনশন আণবিক পাম্প)

4. বৈদ্যুতিক নিয়ন্ত্রণ এবং অপারেশন সিস্টেম

5. অক্সকুটটি ফ্যাসিলিটি সিস্টেম (সাব-সিস্টেম)

6. ডিপোজিশন সিস্টেম: এমএফ স্প্রেটারিং ক্যাথোড, এমএফ পাওয়ার সাপ্লাই, বিয়াস পাওয়ার সাপ্লাই আইন সোর্সটি ঐচ্ছিক

এমএফ Sputtering সিস্টেম RTSP1212-এমএফ বিশেষ উল্লেখ

আমরা আপনার নির্বাচনের জন্য আরো মডেল আছে!

আরো নির্দিষ্টকরণের জন্য আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন, আপনি মোট আবরণ সমাধান প্রদান করতে রয়েল প্রযুক্তি সম্মানিত হয়।