|
| ব্র্যান্ড নাম: | ROYAL |
| মডেল নম্বর: | RTAC-এসপি |
| MOQ: | 1 বিন্যাস করুন |
| মূল্য: | আলোচনাযোগ্য |
| অর্থ প্রদানের শর্তাবলী: | L/C, D/A, D/P, T/T |
| সরবরাহের ক্ষমতা: | প্রতি মাসে 1২ সেট |
সিলিকন ওয়েফার, গ্লাস স্লাইড, সিরামিক শীট এ Au গোল্ড Magnetron Sputtering আবরণ মেশিন
সিলিকন ওয়েফার্স এ অ গোল্ড Magnetron Sputtering
সারাংশ:
সোনা sputtering স্তর বৈশিষ্ট্য:
1. আবদ্ধ এবং ধাতু ফিল্ম আনুগত্য উন্নত করার জন্য বাঁধাই স্তর অপরিহার্য। রয়্যাল টেকনোলজি বিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশনগুলির উপর ভিত্তি করে পরিপক্ক পরিসীমা লেপন তৈরি করেছে, পেশাদারী পরামর্শগুলির সাথে আমাদের গ্রাহকদের সমর্থন করে।
2. বন্ধুরতা (RMS - root অর্থ বর্গ) <40Å অ্যাপ্লিকেশনের অধিকাংশ জন্য আশা করা হয়। কিছু স্ক্যান প্রোবের অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য একটি নিম্ন বন্ধুরতা প্রয়োজন হতে পারে, সাধারণত 1.5 ~ 4 nm।
4. গোল্ড sputtering স্তর পৃষ্ঠ বিশুদ্ধতা: একটি পরিষ্কার পৃষ্ঠ স্বর্ণের পরিবর্তন পরিবর্তন যে অ্যাপ্লিকেশনের জন্য প্রয়োজন হয়। ব্যবহৃত PVD প্রক্রিয়া উপর নির্ভর করে, সিস্টেমের মধ্যে ভ্যাকুয়াম স্তর, সোনার উৎসের মূল বিশুদ্ধতা (সাধারণত 99.99% উপর)
মূলশব্দ: এউ স্বর্ণের ন্যানো কাঠামো পাতলা ফিল্ম জমা, গোল্ড পাতলা ফিল্ম magnetron sputtering, PVD স্বর্ণ sputtering, গোল্ড ভ্যাকুয়াম Metallizing সিস্টেম
অ্যাপ্লিকেশন:
বিশববিদ্যালযে়র ল্যাবরেটরি, ধাতু সামগ্রী তৈরির R & D বিভাগ, পিভিড ভ্যাকুয়াম কোটিং সার্ভিস সেন্টারগুলি, বেশিরভাগ ইলেকট্রনিক্স শিল্পের জন্য পরিবাহী স্তর এবং মাইক্রোস্কোপ নমুনা ইত্যাদি বিষয়ক বিজ্ঞান।
প্রযুক্তিগত বিবরণ:
| মডেল | RTAC0808-এসপি |
| প্রযুক্তি | ডিসি Sputtering + আইওন উৎস (বিকল্পের জন্য) |
| উপাদান | স্টেইনলেস স্টীল (S304) |
| চেম্বারের আকার | Φ800 * H800mm |
| চেম্বার প্রকার | সিলিন্ডার, উল্লম্ব, 1-দরজা |
| রকেট র্যাক সিস্টেম | গ্রহ / কেন্দ্রীয় ড্রাইভিং |
| ডিপোজিটরি উপাদান | স্বর্ণ, অ্যালুমিনিয়াম, সিলভার, কপার, ক্রোম, স্টেইনলেস স্টীল, নিকেল, টাইটানিয়াম |
| ডিপোজিটরি সোর্স | বেলেল্লাপনা / প্ল্যানার Sputtering Cathodes: বিকল্প জন্য 2 বা 3। + 3 আর্ক উত্স |
| প্রতিক্রিয়া গ্যাস নিয়ন্ত্রণ | এমএফসি, ২/4 উপায় |
| নিয়ন্ত্রণ | পিএলসি (প্রোগ্রামেবল লজিক কন্ট্রোলার) + টাচ স্ক্রিন |
| পাম্প সিস্টেম | SV300B - 1 সেট (লেবেড্ড) 300m³ / ঘন্টা |
| রুট পাম্প - 1 সেট, 150 এল / এস | |
| হোল্ডিং পাম্প - 1 সেট, 60m³ / ঘন্টা | |
| Turbo অণু পাম্প: - 1 সেট, 3500 এল / এস | |
| বিদ্যুৎ সরবরাহ | বায়জ বিদ্যুৎ সরবরাহ: 1 * 24 কিলোওয়াট ডিসি sputtering ক্ষমতা: 2 * 24KW |
| নিরাপত্তা ব্যবস্থা | অপারেটরদের সুরক্ষার জন্য অনেক নিরাপত্তা ইন্টারলক এবং সরঞ্জাম |
| শীতলকারী | কুলিং জল রিসাইকেল |
| গরম করার | উনান, 9KW |
| শক্তি ইলেক্ট্রিক | 480V / 3 টি পর্যায় / 60HZ (মার্কিন যুক্তরাষ্ট্র অনুবর্তী) |
| 460V / 3 টি পর্যায় / 50HZ (এশিয়া অনুবর্তী) | |
| 380V / 3 টি পর্যায় / 50HZ (ইইউ-সিই অনুবর্তী) | |
| পদাঙ্ক | L3200 * W2600 * H2000mm |
| সম্পূর্ণ ওজন | 3.0 টি |
| চক্রাকারে | 30 ~ 40 মিনিট (স্তর উপাদান উপর নির্ভর করে, স্তরবিন্যাস জ্যামিতি এবং পরিবেশগত অবস্থার) |
| শক্তি MAX .. | 50KW |
| এভারেজ পাওয়ার কনসাম্পশন (এ্যাপ্রক্স।) | 20KW |
PVD গোল্ড ধাতুপট্টাবৃত wafers
আরো নির্দিষ্টকরণের জন্য আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন, আপনি মোট আবরণ সমাধান প্রদান করতে রয়েল প্রযুক্তি সম্মানিত হয়।
